10月25日上午，华中科技大学武汉光电国家研究中心教授甘棕松应光学高等研究中心曹祥东教授邀请，于H4楼学术报告厅作“超分辨光刻装备研制和微纳米晶体光刻制造”为主题的学术报告。

甘棕松以其近年来在双光束超分辨光刻技术方面的研究进展为报告主讲内容。针对国际光刻技术的现状和我国突破光刻技术的需求，甘棕松近十几年来一直致力于探索新原理光刻机技术，提出了双光束超分辨投影光刻技术，发展了双光束超分辨直写光刻技术，研制出了不同种类的双光束超分辨光刻装备。同时，为了进一步提升双光束超分辨光刻技术的分辨率，报告人开展了微纳米晶体光刻制造技术的研究，探索了微纳米晶体的光刻制造，发展出了一种激光制造晶体的技术。

报告结束后，甘棕松教授与在场师生进行了互动交流，就大家提出的问题进行了解答。光学高等研究中心赵显教授及部分师生代表参加本次报告会。

甘棕松，男，湖北崇阳人，1985年出生。2008年本科毕业于南开大学物理学院, 2013年博士毕业于澳大利亚斯威本科技大学。2017年回国加入华中科技大学武汉光电国家研究中心，任教授、博士生导师。甘棕松教授长期研究超衍射极限光学精密技术，重点研究激光微纳制造新技术的开发及其在新一代信息技术中的应用。涉及的具体研究领域有：超越荷兰阿斯麦公司第五代极深紫外光刻机的第六代双光束超分辨光刻机技术；三维微纳功能器件的光刻制造及其应用；装备开发集成软件技术等。相关研究成果在三维芯片制造，光子芯片，大数据存储，3D纳米打印，仿生学等领域具有较强的国际影响力，并受到国际学术界、产业界和大众媒体的多方关注。

【 作者：赵曜 来源：光学高等研究中心 责任编辑：赵曜】